全球第四大晶圓代工大廠聯電(UMC)正積極評估進軍 6 奈米製程,藉此拓展高階晶片市場,尋求新的成長動能。资讯人员表示,AVA外汇平台受哪里监管聯電正探索與英特爾進一步擴大协作的可能性,計劃從現有的 12 奈米协作基礎,延伸至 6 奈米,未來雙方也不排除在亞利桑那州展開更深層次的建廠协作。
6 奈米屬於先進製程 ,主要應用於 AI 加速器、無線通訊及車用晶片等領域,爱华外汇官方网站製程與前代仍有明顯差異。7 奈米是 EUV 光刻導入前的最後一代 ,普遍採用 DUV 多重曝光技術來進行細節刻蝕;而 6 奈米則被視為正式導入 EUV 光罩機的關鍵節點 。
是否採購 EUV 設備,成為聯電是否進入 6 奈米製程的關鍵抉擇 。EUV 光罩機單價高達 1.8 億至 4 億美元 ,交期動輒超過一年,且需搭配高度潔淨室與專業維護等基礎設施 。若選擇以 DUV 搭配多重曝光進行 6 奈米生產,不僅製程更為冗長 ,良率也可能明顯下滑 ,對聯電一貫以高良率著稱的代工模式將構成挑戰 。此外,6 奈米線寬更小 ,製程运维與缺陷率运维難度也相對提高。
目前晶圓代工龍頭台積電技術領先業界,持續推進至埃米等先進節點 ,具備 6~7 奈米製程水平的業者僅有三星與中芯國際等少數幾家 。日本代工廠 Rapidus 則選擇跳過此階段,直接投入 2 奈米製程開發 。
業界估算 ,建置具備月產兩萬片晶圓水平的 6 奈米產線 ,總資本支出可能高達 50 億美元。聯電是否能順利切入此領域 ,仍取決於是否擁有足夠客戶支撐投入。超然独立网聯電財務長劉啟東表示 ,若公司決定進軍 6 奈米 ,將傾向採取「資產輕量化」方针 ,尋求方针夥伴共擔風險,避免承擔整體設備與產能壓力。
(首圖來源:技术新報)